Marzo, 2025
DISEÑO CON SIEMENS NX
DESCRIPCIÓN DEL CURSO
FORMACIÓN BONIFICABLE MEDIANTE LA FUNDACIÓN ESTATAL
FECHAS:
17, 18, 19, 20 y 21-marzo (de lunes a viernes)
Fecha límite de inscripción: 12 de marzo, miércoles.
HORARIO:
De 8:30 a 12:30 (4 horas/día)
DURACIÓN TOTAL:
20 horas.
REQUISITOS:
Disponer de licencia del software NX. Si no dispones del mismo, envía mail a formacion@ats-global.com.
DIRIGIDO A:
Profesionales del diseño y del mecanizado implicados en actividades de desarrollo de producto.
Empresas y talleres que en sus procesos productivos realicen diseño: líneas de producción, matriceros, moldistas, fabricantes de prototipos y piezas de automóvil, aeronáutica y componentes electrónicos y que adicionalmente:
– Estén en proceso de toma de decisión de adquisición o migración de software PLM.
– Cuenten con software y tengan problemas de diseño.
– Empresas usuarias de esta tecnología que deseen seguir formando personal.
– Empresas que no posean este tipo de herramientas y deseen evaluar sus beneficios
OBJETIVOS:
Aprender a utilizar una herramienta de diseño es relativamente fácil, el valor añadido que entregamos en este ciclo es el conocimiento y la experiencia dirigida totalmente al diseño de piezas que sean fabricables.
Basándonos en lo anterior, hemos diseñado un ciclo básico cuyo objetivo principal es brindar a los participantes los conocimientos necesarios para poder comenzar a trabajar en el entorno de NX y obtener unos conocimientos avanzados a nivel de sólidos.
CONOCIMIENTOS PREVIOS ACONSEJABLES:
Esta formación no tiene requisitos.
AGENDA
- Conocimientos previos
- Interfaz
- Comenzar con NX
- Medición
- Punto/ Eje/ Plano/ SISC
- Figuras primitivas
- Operaciones Booleanas
- Croquización
- Curvas 3D (básico)
- Modelado de sólidos
- Modelado sincrónico
- Ensamblajes (básico)
- Dibujo en plano (básico)
FORMACIÓN BONIFICABLE MEDIANTE LA FUNDACIÓN ESTATAL
ANÁLISIS Y SIMULACIÓN, S.L. se reserva el derecho a cancelar los cursos o a modificar las fechas de los mismos en caso de que no hubiera quórum suficiente.
